알루미나 세라믹 (Al2O3) 은 내열성, 내화학성이 우수하여 반도체 대부분의 공정에서 다양하게 사용되고 있으며, 주로 Chamber 하부의 Plasma 노출 부위 부품 또는 웨이퍼를 챔버 내부로 이송하는 Carrier 등 보조적인 역할을 주로 수행.
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